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发明 一种高导热陶瓷加工用釉面抛光装置
陶瓷加工 釉面抛光 陶瓷加工 釉面抛光 【陶瓷加工 釉面抛光】 2人
B24B29/02 B24B19/22 B24B41/04 B24B41/02 B24B47/12 B24B47/22
摘要:本发明涉及陶瓷加工技术领域,且公开了一种高导热陶瓷加工用釉面抛光装置,包括底座,前后两个支撑柱相靠近一侧均固定连接有升降机构,升降机构上设置有转动机构,转动机构底部设置有安装机构;升降机构包括移动组件和限位组件,限位组件设置于移动组件上,移动组件包括第一T型槽,第一T型槽开设于左右两个支撑柱相靠近一侧内部,四个第一T型槽内部滑动连接有第一T型块,第一T型块一侧固定连接有连接块,后方两个连接块相远离一侧均固定连接有第一电机,第一电机另一侧固定连接有第一转轴,第一转轴表面固定连接有第一齿轮。本发明,通过设置移动组件,在移动组件运行下,可以对陶瓷不同高度进行抛光。
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  • 03-07
  • 11-21

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