发明 光学邻近矫正模型构建方法、装置及计算机设备【特价15】
集成电路 半导体器件 光刻光学器件半 晶圆加工 导体芯片 芯片制造 1人
G03F1/36 G03F7/20
摘要：本申请提供一种光学邻近矫正模型构建方法、装置及计算机设备，涉及半导体制造技术领域。本申请通过对包括有待校验掩膜图案及对应的至少一种基础掩膜图案的待测掩膜板图案进行真实曝光试验及曝光模拟仿真，而后根据得到的基础掩膜图案的第一曝光图案尺寸信息、待校验掩膜图案的第二曝光图案轮廓信息，及待校验掩膜图案的仿真曝光图案轮廓信息，将待校验掩膜图案在真实曝光与光学仿真下分别对应的整体曝光轮廓状况结合到目标电路图案的光学邻近矫正模型构建过程中，使最终得到的模型直接具有较高的矫正预测精准度，无需反复调整待校验掩膜图案进行真实曝光试验来改善模型的矫正预测精准度，从而减少模型构建成本及模型构建时长。
