发明 一种耐低温高阻透明导电膜及其制备方法
导电膜 【导电膜】 2人
H01B1/04 H01B5/00 H01B13/00 C01B32/184
摘要：本发明公开了一种耐低温高阻透明导电膜及其制备方法，涉及透明导电薄膜材料技术领域。本发明先用葡聚糖对氧化石墨烯进行还原，制得改性石墨烯，然后，将预处理硅片分别浸泡于聚烯丙胺盐酸盐溶液和四氯合锌酸铵溶液中，制得改性硅片，最后将改性硅片与改性石墨烯混合，并在还原剂的作用下反应，制得载膜硅片，揭膜后，干燥，制得耐低温高阻透明导电膜。本发明制备的耐低温高阻透明导电膜具有较好的透光率，且电阻率相对较高，在低温条件下能良好的使用。
