发明 一种目标图形获取方法、装置及相关设备【特价15】
光学器件 集成电路 半导体器件 光刻 半导体芯片 晶圆加工 1人
G03F7/20
摘要：本申请提供了一种目标图形获取方法、装置及相关设备，涉及光刻技术领域。首先获取原始图形的参数，其中，原始图形中包括多个图形条，原始图形的参数包括每个图形条的宽度及相邻两个图形条之间的间距，再依据每个图形条的宽度及相邻两个图形条之间的间距对图形进行分区，并确定目标区域，最后在掩膜板与目标区域对应的位置增设散射条，以通过掩膜板在晶圆上刻蚀出目标图形，其中，目标图形与原始图形相同。本申请提供的目标图形获取方法、装置及相关设备具有光学临近效应的修正效果更好的优点。
