发明 一种半导体光催化剂材料及其加工工艺
光催化材料 半导体光催化剂材料 【光催化材料 半导体光催化剂材料】 2人
B01J27/24 B01J20/06 C02F1/28 C02F1/30 C02F1/72 B01J20/30 C02F101/30
摘要：本发明公开了一种半导体光催化剂材料及其加工工艺，该复合光催化剂材料包括金属铈、钒酸铋和六方氮化硼，该复合光催化剂材料以六方氮化硼为载体，六方氮化硼上负载有掺杂金属铈的钒酸铋；该复合光催化剂材料的加工工艺为：钒酸铋的制备；铈/钒酸铋复合物的制备；六方氮化硼纳米片的制备；铈/钒酸铋/六方氮化硼复合光催化剂的制备；该复合光催化剂材料中，钒酸铋光催化剂通过掺杂金属铈，并负载在六方氮化硼载体上，两者共同作用，大大地抑制了钒酸铋光催化剂光生电子和空穴的复合，从而有效延长光生电子‑空穴的寿命，提高其光催化活性；实验结果表明，本发明复合光催化剂材料具有很好的可见光催化性能。
